金属薄膜电阻率实验数据

金属薄膜电阻率实验数据

一、实验测量及数据处理：

数据记录表格

金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间4min) 膜厚d=532.8*10^-10m 电流I/mA 正向电压V+/mA 负向电压V-/mV 平均电压V/mV 0.3514 0.427 -0.425 0.426 0.4467 0.542 -0.54 0.541 0.5625 0.682 -0.681 0.6815 0.6885 0.835 -0.833 0.834 0.7995 0.992 -0.989 0.9905 0.9569 1.187 -1.184 1.1855 1.459 1.806 -1.808 1.807 2.951 3.652 -3.654 3.653 3.643 4.51 -4.511 4.5105 金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间8min) 膜厚d=1065.6*10^-10m 电流I/mA 0.7294 1.6518 2.965 4.64 7.938 10.128 11.401 13.888 16.703 正向电压V+/mA 0.184 0.418 0.752 1.177 2.014 2.57 2.893 3.524 4.238 负向电压V-/mV -0.186 -0.42 -0.752 -1.177 -2.015 -2.57 -2.893 -3.525 -4.239 平均电压V/mV 0.185 0.419 0.752 1.177 2.0145 2.57 2.893 3.5245 4.2385 金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间12min) 膜厚d=1598.4*10^-10m 电流I/mA 1.867 6.2 12.07 17.3 20.63 24.51 正向电压V+/mA 0.207 0.684 1.328 1.906 2.27 2.698 负向电压V-/mV -0.207 -0.684 -1.329 -1.905 -2.272 -2.698 平均电压V/mV 0.207 0.684 1.3285 1.9055 2.271 2.698 27.37 32.84 38.94 3.013 3.615 4.284 -3.015 -3.615 -4.288 3.014 3.615 4.286 金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间20min) 膜厚d=2664*10^-10m 电流I/mA 4.561 8.936 16.42 21.28 35.59 46.73 52.64 56.4 66.32 正向电压V+/mA 0.253 0.494 0.906 1.174 1.962 2.576 2.906 3.11 3.657 负向电压V-/mV -0.25 -0.491 -0.904 -1.176 -1.956 -2.581 -2.904 -3.112 -3.658 平均电压V/mV 0.2515 0.4925 0.905 1.175 1.959 2.5785 2.905 3.111 3.6575 金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间25min) 膜厚d=3330*10^-10m 电流I/mA 0.7984 1.263 3.43 6.279 5.472 10.243 13.139 27.08 50.83 正向电压V+/mA 0.03 0.048 0.13 0.238 0.226 0.423 0.497 1.12 2.097 负向电压V-/mV -0.03 -0.047 -0.129 -0.237 -0.224 -0.421 -0.496 -1.116 -2.095 平均电压V/mV 0.03 0.0475 0.1295 0.2375 0.225 0.422 0.4965 1.118 2.096 Excel处理的电压随电流变化的关系图：

由ρF，根据已经处理得到的V/I,代入求得ρF：

d/m 5.328E-08 1.0656E-07 1.5984E-07 2.664E-07 0.000000333 V/I 1.237 0.2538 0.1101 0.0552 0.041 ρF/Ω*m 2.98716E-07 1.22577E-07 7.97622E-08 6.66496E-08 6.18803E-08 ρF-d的图像：

二、讨论：

本实验中采用测量同一电流状况下的正反向电压可以减小实验的误差。 三、结论：

由以上数据图像可得，溅射薄膜的电阻率随着膜厚的增加而减小； 薄膜厚度d由公式d=kVIt给出，其中k为常数；