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刻蚀液的组成：
48%HF：99.8％C2H5OH：H2O＝1:2:17（体积比） 室温工作，300W卤素灯背照明，直流2.5V或者小于30mA/cm2的电流密度，Pt阴极。
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第三讲 体硅加工 - 图文
第三讲 体硅加工 - 图文.doc
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刻蚀液的组成：
48%HF：99.8％C2H5OH：H2O＝1:2:17（体积比） 室温工作，300W卤素灯背照明，直流2.5V或者小于30mA/cm2的电流密度，Pt阴极。
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